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标题:为什么PVD镀膜要在真空环境下进行
正文:
PVD的全称是Physical Vapor Deposition，即物理气相沉积。是一种物理状态下的物质转移过程，可以将原子或分子状态下的物质从一个物体转移到另一个物体上，从而使其具有更加优异的性能。PVD镀膜可以在真空环境下进行，这项技术称为PVD真空镀膜。金属在真空环境下与各种气体产生综合作用形成等离子体，经过加速后，等离子体涌向被镀工件表面，形成牢固的膜层。这层膜细密均匀，结合力强，硬度高，防腐耐磨，具有良好的导电性和自润滑性能，同时色泽丰富多样。而且，由于PVD真空镀膜是在真空环境下进行，而真空中的大物分物质已被排出，所以镀膜的过程受到外界干扰的影响就很小，颜色就不会杂乱，也没有膜层脱落的后顾之忧。
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