真空镀膜机关键指类别必须在较高真空值下开展的镀晶，实际包含许多类型，包含真空泵正离子挥发，磁控溅射，MBE分子结构束外加，PLD激光器溅射堆积等很多种多样。关键构思是分为挥发和溅射二种。
必须镀晶的被称作基片，镀的原材料被称作靶材。 基片与靶材肩并肩真嘴巴里中。
挥发镀晶通常是加温靶材使表层多组分以原子团或正离子方式被挥发出去。而且地基沉降在基片表层，根据破乳全过程(散点-岛状构造-迷走构造-糜棱岩生长发育)产生塑料薄膜。 针对溅射类镀晶，能够 简易了解为运用电子器件或一般激光器轰击靶材，并使表层多组分以原子团或正离子方式被溅射出去，而且最后堆积在基片表层，亲身经历破乳全过程，最后产生塑料薄膜。
塑料薄膜匀称性定义
1.薄厚上的匀称性，还可以了解为表面粗糙度，在光学薄膜的限度上看(也就是说1/10光波长做为企业，约为100A)，真空电镀的匀称性早已非常好，能够 轻轻松松将表面粗糙度操纵在可见光波长的1/10范围之内，换句话说针对塑料薄膜的电子光学特点而言，真空电镀没有阻碍。 可是假如就是指分子层限度上的精密度，换句话说要保持10A乃至1A的表层整平，实际操纵要素下边会依据不一样镀晶得出详尽表述。
2.有机化学多组分上的匀称性: 就是在塑料薄膜中，化学物质的分子多组分会因为限度过小而非常容易的造成不匀称特点，SiTiO3塑料薄膜，假如镀晶全过程不合理，那麼具体表层的多组分并非SiTiO3，而将会是别的的占比，镀的膜并不是是愿意的膜的成分，这都是真空电镀的科技含量所属。 实际要素也在下边得出。
3.晶格常数井然有序度的匀称性: 这决策了塑料薄膜是多晶硅，多晶，非晶，是真空电镀技术性中的热点话题，
关键归类有2个大类型: 挥发堆积镀晶和溅射堆积镀晶，实际则包含许多类型，包含真空泵正离子挥发，磁控溅射，MBE分子结构束外加，溶胶凝胶法这些 。
一、针对挥发镀晶:
通常是加温靶材使表层多组分以原子团或正离子方式被挥发出去。
薄厚匀称性关键在于:
1.基片原材料与靶材的晶格常数配对水平
2.基片环境温度
3.挥发输出功率，速度
4.真空值
5.镀晶時间，薄厚尺寸。
多组分匀称性:
挥发镀晶多组分匀称性并不是非常容易确保，实际能够 管控的要素同上，可是因为基本原理限制，针对非单一化多组分镀晶，挥发镀晶的多组分匀称性不太好。
晶向匀称性:
1.晶格常数配对度
2.基片溫度
3.挥发速度
溅射镀晶又分成很多种多样，整体看，与挥发镀晶的不同之处取决于溅射速度将变成基本参数之首。
溅射镀晶中的激光器溅射镀晶pld，多组分匀称性非常容易维持，而分子限度的薄厚匀称性相对性较弱(由于是单脉冲溅射)，晶向(外沿)生长发育的操纵也较为通常。