pvd涂层采用矩形阴极磁控电弧工艺 优越快捷(加工时间约2~3小时) 涂层可镀于合金钢、高速钢、碳化钨、铍铜等材料 高品质，重复性及可靠性高 可延长刀具使用寿命3-10倍可延长模具使用寿命2-6倍可涂 TiN, TiAlN, TiCN, TiAlCN, Ti2N, CrN, ZrN, DLC, AlTiN 等

物理气相沉积技术 PVD 介绍物理气相沉积具有金属汽化的特点，与不同的气体反应形成一种薄膜涂层。今天所使用的大多数 PVD 方法是电弧和溅射沉积涂层。这两种过程需要在高度真空条件下进行。Ionbond 阴极电弧PVD 涂层技术在 20 世纪 70 年代后期由前苏联发明，如今，绝大多数的刀模具涂层使用电弧沉积技术。工艺温度典型的 PVD 涂层加工温度在 250 ℃— 450 ℃之间，但在

pvd涂层技术分：增强型磁控阴极弧；过滤阴极弧；磁控溅射；离子束DLC增强型磁控阴极弧：阴极弧技术是在真空条件下，通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态，从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用，将靶材表面的电弧加以有效地控制，使材料的离化率更高，薄膜性能更加优异。过滤阴极弧：过滤阴极电弧(FCA )配有高效的电磁过滤系统，可将离子源产生的等离子体中的宏观粒子、离子团过滤干净，

PVD技术出现于二十世纪七十年代末，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。最初在高速钢刀具领域的成功应用引起了世界各国制造业的高度重视，人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。与CVD工艺相比，PVD工艺处理温度低，在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响；薄膜内部应力状态为压应力，更适于对硬质合金精密复杂刀具